商標註冊公告-內容
01985586 (墨色)(平面)
公告日期: 108.05.16 107.08.08
HSN
日商.史鐵勒傑米華股份有限公司
STELLA CHEMIFA CORPORATION
日本
閻啓泰
林景郁
權利期間: 108.05.16~ 118.05.15
江小燕
001
商標法施行細則第19條第001類
半導體製造用蝕刻劑,印刷電路板製造用蝕刻劑,蝕刻劑,工業產製過程用清潔劑,氟化物,氟,工業用化學品。
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